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작성일 25-07-03 16:23
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1. 헐셀 시험법 - 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다. ● 석출상태 관리 - 화학 成分으로는 얻을수 없는 成分 - 화학 分析으로는 시간이 걸리는 成分 - 상당히 미량이면서 도금에 influence을 주는 成分 - 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측 ● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력, 광택제 소모량 등 많은 것을 알아 낼수 있다아 - 음극 : 광택있는 평활한 구리판, 황동판 또는 철판을 사용 - 양극 : 용해성 양극판을 사용
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1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , FileSize : 24K , 표면처리공학기술레포트 , 양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀
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레포트/공학기술
1. 헐셀 시험법, 2. 와트욕, 3. 니켈 도금의 일상 관리, 4. 크롬도금 표준액, 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법, 6. 걸이, 7. 도금방지처리, 8. 양극처리 , , 파일크기 : 24K
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다.
